特許
J-GLOBAL ID:200903048548353929

凹版およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-221516
公開番号(公開出願番号):特開平5-057867
出願日: 1991年09月02日
公開日(公表日): 1993年03月09日
要約:
【要約】【目的】 凹版印刷法で、液晶ディスプレイのカラーフィルタや透明電極等の大面積の微細パターンを形成するための凹版および凹版の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 SiO2の組成が80wt%以上であるガラスに、リアクティブイオンエッチングで凹部を形成する。【効果】 エッジがシャープで開口部が狭く溝の深い凹部を有する凹版を作製することができる。凹部のエッジがシャープであるとインクが凹版から被転写体やブランケットへ転写される際にインクパターンのエッジ部分の版離れがスムーズに行われ、パターン精度が良くなる。これにより25μm以下のの微細線幅パターンや25μm以下のスペースを有するパターンが印刷可能となる。
請求項(抜粋):
SiO2の組成が80wt%以上であるガラスからなることを特徴とする凹版。
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平2-305640

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