特許
J-GLOBAL ID:200903048554393045

ボンド磁石表面への無機質被膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-052955
公開番号(公開出願番号):特開2002-260942
出願日: 2001年02月27日
公開日(公表日): 2002年09月13日
要約:
【要約】【課題】 リング厚みの小さいリング形状のボンド磁石などをはじめとする薄肉のボンド磁石表面にも、磁石の割れや欠けを発生させることなく、優れた密着性を有する無機質被膜を安定に効率よく蒸着形成することができる方法を提供すること。【解決手段】 蒸着槽内の全圧を0.1Pa以上、かつ、蒸着時の磁石温度を200°C以下に保持しながら、イオンプレーティング法により無機質被膜を蒸着形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
ボンド磁石表面への無機質被膜形成方法において、蒸着槽内の全圧を0.1Pa以上、かつ、蒸着時の磁石温度を200°C以下に保持しながら、イオンプレーティング法により無機質被膜を蒸着形成することを特徴とする方法。
IPC (2件):
H01F 41/02 ,  C23C 14/16
FI (2件):
H01F 41/02 G ,  C23C 14/16 D
Fターム (12件):
4K029AA01 ,  4K029BA03 ,  4K029BC01 ,  4K029CA03 ,  4K029EA01 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  4K029FA04 ,  5E062CC02 ,  5E062CD05 ,  5E062CG03 ,  5E062CG07

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