特許

J-GLOBAL ID：200903048567160490

感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法

発明者： 日高 敬浩 ,  鍛治 誠
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-147885
公開番号（公開出願番号）：特開平11-338141
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 優れた感光特性(感度、解像度)を有し、低露光量でも形状に優れる良好なパターンが得られる感光性ポリイミド前駆体組成物及び優れた耐熱性、耐薬品性を示すポリイミド膜パターンが製造可能なパターンの製造法を提供する。【解決手段】 光重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体並びに光開始剤系として下記一般式(I)で表わされるヘキサアリールビイミダゾール化合物と(II)で表わされるアリールグリシン系化合物及びこの感光性ポリイミド前駆体組成物を用いて被膜を形成し、光照射後の被膜を塩基性水溶液を用いて現像する工程を含むパターンの製造法。(式(I)中、X、Y及びZは、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子などであり、pは、1〜7の整数、q及びrは、1〜5の整数である)(式(II)中、R3は水素原子又はアルキル基、R4は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子など、sは1〜5の整数である)

請求項（抜粋）：

(A)光重合可能な炭素-炭素二重結合を有するポリイミド前駆体並びに(B)光開始剤系として(b1)一般式(I)【化1】(式中、X、Y及びZは、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、トリハロメチル基、ニトロ基、アルコキシ基又はCOR1若しくはCOOR2(R1及びR2は各々独立にアルキル基である)で示される基であり、pは、1〜7の整数であり、q及びrは、各々独立に、1〜5の整数である)で表わされるヘキサアリールビイミダゾール化合物と(b2)一般式(II)【化2】(式中、R3は水素原子又はアルキル基、R4は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又はアルコキシ基、sは1〜5の整数である)で表わされるアリールグリシン系化合物又は芳香族メルカプト化合物とを含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/027 514 ,  C08G 73/12 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/32

FI (5件)：

G03F 7/027 514 ,  C08G 73/12 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/32