特許

J-GLOBAL ID：200903048579046170

エキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板

発明者： 大塚 久利 ,  滝田 政俊 ,  藤ノ木 朗
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  信越石英株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190143
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043891
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はエキシマレーザを光源とした、例えばエキシマレーザリソグラフィー装置に使用されるリソグラフィー用石英マスク基板の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のエキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板は、水素分子を1×1017〜1×1019molecules/cm3 の範囲で含有してなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

水素分子を1×1017〜1×1019molecules/cm3 の範囲で含有してなることを特徴とするエキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板。

IPC (4件)：

G03F 1/14 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/027