特許

J-GLOBAL ID：200903048582509253

薄膜形成装置

発明者： 林 専一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-234067
公開番号（公開出願番号）：特開平9-078247
出願日： 1995年09月12日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【課題】 生産性の極めて高い薄膜形成装置を提供する。【解決手段】 被覆基体102を保持するホルダ103を2系列含み、該ホルダが対面の位置関係にある成膜室101と、該成膜室にガスを供給する手段と、該成膜室から排気する手段と2系列の該ホルダの中間に配されたスロット付無端環状導波管107を介してマイクロ波電力を該成膜室に供給する手段とで構成されることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被覆基体を保持するホルダを2系列含み、該ホルダが互いに対面の位置関係にある成膜室と、該成膜室にガスを供給する手段と、該成膜室から排気する手段と2系列の該ホルダの中間に配された複数のスロットが内側面に形成された終端を持たない無端環状導波管を介してマイクロ波電力を該成膜室に供給する手段とで構成されることを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (5件)：

C23C 16/50 ,  G11B 11/10 541 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 31/04

FI (5件)：

C23C 16/50 ,  G11B 11/10 541 F ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 31/04 A