特許

J-GLOBAL ID：200903048598554070

クリーニングガス

発明者： 毛利 勇 ,  田村 哲也 ,  大橋 満也
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-239338
公開番号（公開出願番号）：特開平11-236561
出願日： 1998年08月26日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】 CVD法、スパッタリング法、ゾルゲル法、蒸着法等を用いて薄膜、厚膜、粉体、ウイスカを製造する装置において、装置内壁、冶具等に堆積した不要な堆積物を除去するための地球温暖化係数がないクリーニングガスを提供する。【解決手段】 ハイポフルオライトを100%または希釈ガスで1vol%以上に希釈したクリーニングガスであり、また少なくとも酸素または酸素含有化合物ガスを含有し、該酸素が0.4〜90vol%の割合で含有させる。

請求項（抜粋）：

薄膜形成装置内に生成した不要な堆積物と反応させて除去し、装置外に排出するためのガスであって、ハイポフルオライトを100%または希釈ガスで1vol%以上に希釈したガスからなることを特徴とするクリーニングガス。

IPC (10件)：

C09K 13/08 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 645 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/38 ,  C11D 17/00

FI (10件)：

C09K 13/08 ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 645 C ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/38 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/302 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• クリーニングガス及びエッチングガス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-130120   出願人：セントラル硝子株式会社