特許
J-GLOBAL ID:200903048615550343
低誘電材料を含むワークピースのレーザ加工
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
平木 祐輔
, 関谷 三男
, 渡辺 敏章
, 松丸 秀和
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-512268
公開番号(公開出願番号):特表2009-538233
出願日: 2007年05月22日
公開日(公表日): 2009年11月05日
要約:
1.1μmより長く5μmより短い(好ましくは、約1.1μmの)波長を有し、100psより短い(好ましくは、10psより短い)パルス幅を有する少なくとも1つのレーザパルス(32)を含むレーザ出力は、基板を破損することなく、SRO又はSiCOH等の低誘電材料を除去することができる。オシレータモジュール(12)は、増幅モジュール(16)と連携してレーザ出力を生成するために使用される。【選択図】図3
請求項(抜粋):
ウエハ基板によって支持された低誘電材料をレーザ処理する方法において、
1.1μmより長く、5μmより短い波長を有し、100ピコ秒より短いパルス幅を有する少なくとも1つのレーザパルスを含むレーザ出力を生成する工程と、
前記ウエハ基板を動作的に破損することなく、低誘電材料のターゲット部分を除去するように前記低誘電材料のターゲット部分にレーザ出力を向ける工程とを有する方法。
IPC (2件):
FI (3件):
B23K26/36
, B23K26/00 N
, B23K26/00 H
Fターム (4件):
4E068AA04
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068DA10
引用特許:
審査官引用 (3件)
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レーザビームを使用した加工機
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-131776
出願人:株式会社ディスコ
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特許第2625261号
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特許第2625261号
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