特許

J-GLOBAL ID：200903048621309313

露光装置

発明者： 川染 毅史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-255931
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068614
出願日： 2001年08月27日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：

【要約】【課題】 予定されたロット処理が行えなくなるというリスクを回避して連続ロット処理を効率よく行うことが可能な露光装置を提供する。【解決手段】 複数枚のレチクルを保持するレチクルライブラリ20と、所定の処理を実行するためにレチクルを保持するレチクル露光前待機位置21と、レチクル露光前待機位置21に保持されたレチクルを使用して所定の処理を実行する露光処理実行手段17と、レチクルを搬送するレチクル搬送手段18とを備え、装置内に保持されている個々のレチクルに対する外部からの操作を禁止する、あるいは、操作を制限するロット処理管理制御手段16およびレチクル情報管理手段23等を有する。

請求項（抜粋）：

複数枚の原版を保持する原版ライブラリと、所定の処理を実行するために前記原版を所定の処理位置に保持する保持手段と、前記処理位置に保持された前記原版を使用して所定の処理を実行する原版処理手段と、前記原版を搬送する原版搬送手段とを備える露光装置において、前記露光装置内に保持されている個々の前記原版に対する外部からの操作を禁止、あるいは、操作を制限する手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (9件)：

5F046AA21 ,  5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046CD02 ,  5F046CD04 ,  5F046DA06 ,  5F046DA09 ,  5F046DD01 ,  5F046DD04