特許
J-GLOBAL ID:200903048625276231
N-ヒドロキシアルキル化アミドから(メタ)アクリレートを製造する接触法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, 杉本 博司
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-522958
公開番号(公開出願番号):特表2008-508205
出願日: 2005年07月13日
公開日(公表日): 2008年03月21日
要約:
本発明はN-ヒドロキシアルキル化アミドから(メタ)アクリレートを製造する接触法およびその使用に関する。
請求項(抜粋):
N-ヒドロキシアルキル化アミドから(メタ)アクリレートを製造する方法において、環状N-ヒドロキシアルキル化アミド(C)
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
4B064AE01
, 4B064CA21
, 4B064CB03
, 4B064CB30
, 4B064CC03
, 4B064CC04
, 4B064CC08
, 4B064CD07
, 4H039CA66
, 4H039CD10
, 4H039CD30
引用特許:
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