特許

J-GLOBAL ID：200903048625276231

N-ヒドロキシアルキル化アミドから(メタ)アクリレートを製造する接触法

発明者： フランク ヘーファー ,  ディートマー ヘーリング
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア
代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-522958
公開番号（公開出願番号）：特表2008-508205
出願日： 2005年07月13日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：

本発明はN-ヒドロキシアルキル化アミドから(メタ)アクリレートを製造する接触法およびその使用に関する。

請求項（抜粋）：

N-ヒドロキシアルキル化アミドから(メタ)アクリレートを製造する方法において、環状N-ヒドロキシアルキル化アミド(C)

IPC (2件)：

C07D 233/34 ,  C12P 13/00

FI (2件)：

C07D233/34 ,  C12P13/00

Fターム (11件)：

4B064AE01 ,  4B064CA21 ,  4B064CB03 ,  4B064CB30 ,  4B064CC03 ,  4B064CC04 ,  4B064CC08 ,  4B064CD07 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CD30

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭62-223175
  
• 特開昭62-230755
  
• 特開昭62-185059
  
• 特開昭62-223175
  
• 特開昭62-230755
  
• 特開昭62-185059