特許

J-GLOBAL ID：200903048628222434

露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 長谷川 敬恭
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-211693
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101537
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 EUV光を用いる露光装置においては、露光装置の部品から出るアウトガスや、ウエハを露光する際に生じるレジストが気化したガス等により、ミラーが汚染され、ミラーの反射率が低下する恐れがあった。【解決手段】 露光装置であって、ミラーに付着してミラーの反射率の低下の原因となる可能性のある汚染物質をコールドトラップで吸着すると共に、そのコールドトラップによってミラー等が過度に冷却されないように輻射シールド部材を設けたことを特徴としている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

EUV光を用いてレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルからの光を被露光体に導く複数の反射光学素子で構成された投影光学系と、前記レチクルから前記被露光体に至る光路を囲むチャンバとを有する露光装置において、前記チャンバ内にコールドトラップと、前記コールドトラップが所定の部材を輻射冷却するのを防止する輻射シールド部材とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 517

Fターム (8件)：

2H097AA02 ,  2H097CA15 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GB00

引用特許：

出願人引用 (1件)

• リトグラフ投影装置およびディバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-131626   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ