特許
J-GLOBAL ID：200903048640758870
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163650
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335262
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：
【要約】【目的】周辺電極を有するプラズマ処理装置に於いて、清浄作業が容易に行える様にする。【構成】相対向する一対の電極4,5間に高周波電力を印加させ、両電極間にプラズマを発生させ、一方の電極4に載置したウェーハ43を処理するプラズマ処理装置に於いて、前記の一対の電極を収納する真空容器1を容器本体2と蓋3とで構成し、該一対の電極の内他方をリング状の周辺電極22とし、該リング状の周辺電極を前記蓋側に設け、蓋を取外して真空容器内を開放し、又蓋の内面側を露出させて清浄作業を行う。
請求項（抜粋）：
相対向する一対の電極間に高周波電力を印加させ、両電極間にプラズマを発生させ、一方の電極に載置したウェーハを処理するプラズマ処理装置に於いて、前記の一対の電極を収納する真空容器を容器本体と蓋とで構成し、該一対の電極の内他方をリング状の周辺電極とし、該リング状の周辺電極を前記蓋側に設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
