特許

J-GLOBAL ID：200903048644126208

親水化処理方法

発明者： 江口 勇司 ,  大塚 健二 ,  野口 順子 ,  湯浅 基和
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-063502
公開番号（公開出願番号）：特開平10-249271
出願日： 1997年03月17日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：

【要約】【課題】 シリカ微粒子と一般的な樹脂との組合せることにより、親水性が非常に高く、耐汚染性にすぐれた親水化処理方法を提供する。【解決手段】 合成樹脂中にシリカ微粒子が分散されてなる皮膜の表面を放電処理又は真空紫外光照射処理する。

請求項（抜粋）：

合成樹脂中にシリカ微粒子が分散されてなる皮膜の表面を放電処理又は真空紫外光照射処理することを特徴とする親水化処理方法。

IPC (5件)：

B05D 5/00 ,  B05D 7/24 303 ,  C08J 7/00 303 ,  C08J 7/00 304 ,  C09D 7/12

FI (5件)：

B05D 5/00 H ,  B05D 7/24 303 B ,  C08J 7/00 303 ,  C08J 7/00 304 ,  C09D 7/12 Z