特許
J-GLOBAL ID：200903048647818208

ハードディスク蒸気潤滑剤注入

発明者：
ヒューズ、ジョン・エル

ヒューズ、ジョン・エル について

, 
デコベン、ベンジャミン・エム

デコベン、ベンジャミン・エム について

, 
ラビネ、リチャード・イー

ラビネ、リチャード・イー について


出願人/特許権者：
インテバック・インコーポレイテッド

インテバック・インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-566847
公開番号（公開出願番号）：特表2002-523852
出願日： 1999年08月10日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
要約：
【要約】真空中でディスクを真空ステーションへ輸送する装置が開示される。真空ステーションでは、潤滑膜がディスク表面に一様に蒸着される。多数の穴60を有する板50通じて蒸着され、厚さの一様性が達成される。製造装置設備、新規な製造方法及び新規なディスクが開示される。
請求項（抜粋）：
平滑なハードディスクの製造方法であって、 真空中で、基板上に磁気メディアの下地層を被膜する工程、 前記真空中に前記下地層を維持しながら、前記下地層上に保護層を被膜する工程、及び 前記真空中に前記保護層を維持しながら、前記保護層上に潤滑層を被膜する工程、から成る方法。
IPC (12件)：
G11B 5/84 ,  C10M107/38 ,  C23C 14/06 ,  C23C 16/26 ,  G11B 7/24 533 ,  G11B 7/24 534 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/105 531 ,  G11B 11/105 ,  G11B 11/105 546 ,  C10N 40:18 ,  C10N 50:04
FI (12件)：
G11B 5/84 B ,  C10M107/38 ,  C23C 14/06 F ,  C23C 16/26 ,  G11B 7/24 533 K ,  G11B 7/24 534 M ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/105 531 D ,  G11B 11/105 531 M ,  G11B 11/105 546 F ,  C10N 40:18 ,  C10N 50:04
Fターム (28件)：
4H104CD04 ,  4H104PA16 ,  4H104QA09 ,  4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA34 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K030BA27 ,  4K030CA02 ,  4K030CA12 ,  4K030LA20 ,  5D029LA12 ,  5D029LC21 ,  5D075EE03 ,  5D075FG04 ,  5D075FG10 ,  5D075GG02 ,  5D075GG12 ,  5D075GG16 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BC00 ,  5D112CC00 ,  5D112FA02 ,  5D112GA00 ,  5D121AA03 ,  5D121EE02
引用特許：
審査官引用 (6件)
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