特許

J-GLOBAL ID：200903048648691686

液晶表示装置の製造方法

発明者： 林 久雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-188778
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034721
出願日： 1991年07月29日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 オープン欠陥を補償し、かつ欠陥検出の簡便な液晶表示装置の製造方法を提供する。【構成】 各画素に対応する透明電極1(111、112、....123....)と、この透明電極1に接続された薄膜トランジスタTr(Tr11,Tr12,....Tr23....)とが絶縁基板上にマトリクス状に配列された液晶表示装置の製造方法において、絶縁基板上に全画素が短絡された非晶質材料からなる透明電極1および薄膜トランジスタTrを形成する工程と、薄膜トランジスタTrを動作させ各トランジスタTrの良否を判定する工程と、不良画素とこれと隣り合う良品画素との連結部421を結晶化させる工程と、この連結部421以外の各画素の透明電極1を分離する工程とを有する。

請求項（抜粋）：

各画素に対応する透明電極と、この透明電極に接続された薄膜トランジスタとが絶縁基板上にマトリクス状に配列された液晶表示装置の製造方法において、絶縁基板上に全画素が短絡された非晶質材料からなる透明電極および薄膜トランジスタを形成する工程と、前記薄膜トランジスタを動作させ各トランジスタの良否を判定する工程と、不良画素と、前記不良画素と隣り合う良品画素との連結部を結晶化させる工程と、該連結部以外の各画素の透明電極を分離する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/133 550 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/784