特許

J-GLOBAL ID：200903048661946030

レーザ描画装置及びレーザ描画方法

発明者： 長坂 公夫 ,  宮前 章
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-263757
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072493
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 深さ方向に微細な階調を有するパターンを高精度に、しかも短時間で描画するレーザ描画装置を提供する。【解決手段】 被処理部材(111)が載置され該部材を回転させるためのターンテーブル(109)と、直線的なスライダ(107)と、光源となるレーザ(112)と、スライダ(107)に搭載され処理部材(111)にレーザ光(112)を集光しレーザスポットを形成するための光学系(101,104,105)と、レーザスポットによる露光量を変化させるための光変調器(102)と、ターンテーブル(109)の回転中心からの半径及び回転角を逐次変化させながらサンプリング座標を生成するサンプリング座標生成手段(206)と、サンプリング座標位置での状態を表す特定の物理量に対応するサンプリング情報を生成するサンプリング情報生成手段(208)と、サンプリング情報から光変調器を制御するための光変調器制御手段(206,204,205)を備える。

請求項（抜粋）：

被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記処理部材にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記ターンテーブルの回転中心からの半径及び回転角を逐次変化させながらサンプリング座標を生成するサンプリング座標生成手段と、前記サンプリング座標位置での状態を表す特定の物理量に対応するサンプリング情報を生成するサンプリング情報生成手段と、前記サンプリング情報から前記レーザスポットの露光量を制御するための露光量制御手段を備えたレーザ描画装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 503 A ,  H01L 21/30 529

Fターム (12件)：

2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F046BA07 ,  5F046CC06 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15 ,  5F046DA02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジストの露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-187454   出願人：ソニー株式会社
• 光ディスク原盤記録方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-186757   出願人：パイオニア株式会社, パイオニアビデオ株式会社