特許

J-GLOBAL ID：200903048665567581

凹凸パターンの形成方法及び物品

発明者： 高原 淳 ,  森田 正道
出願人/特許権者： 国立大学法人九州大学 ,  ダイキン工業株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-239876
公開番号（公開出願番号）：特開2009-066990
出願日： 2007年09月14日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】室温であっても微細な凹凸パターンを短時間で効率よく形成することができる方法を提供する。【解決手段】フルオロエチレンに由来する単量体単位が50質量%以上であり室温で固体状態である含フッ素重合体からなる膜の表面に、微細な凹凸パターンを有するモールドを室温で圧着させる工程(1)と、上記モールドを室温で上記膜から脱離する工程(2)とを含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

フルオロエチレンに由来する単量体単位が50質量%以上であり室温で固体状態である含フッ素重合体からなる膜の表面に、微細な凹凸パターンを有するモールドを室温で圧着させる工程(1)と、前記モールドを室温で前記膜から脱離する工程(2)とを含む ことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  B81C 5/00

FI (4件)：

B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D ,  B81C5/00 ,  B29C59/02 B

Fターム (22件)：

3C081CA37 ,  3C081DA10 ,  4F209AA16 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AH79 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PC08 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F046BA10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第5772905号明細書
  
• 転写層にパターンを形成する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-234496   出願人：旭硝子株式会社