特許
J-GLOBAL ID：200903048674360426
光学素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-242940
公開番号（公開出願番号）：特開平8-108475
出願日： 1994年10月06日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：
【要約】【目的】 回折効率や集光効率の高い理想的な形状の光学素子を容易に製造できる光学素子の製造方法を提供する。【構成】 基板1上に加工層2を形成して、加工層2を所望の深さ分布を有する形状に加工した後、基板1および加工層2のエッチングレートの比で表される選択比を変化させながら、加工層2および基板1を異方性エッチングして、基板1に加工層2の形状を変化させて転写することにより、所望の光学素子を得る。
請求項（抜粋）：
基板上に加工層を形成する工程と、該加工層を所望の深さ分布を有する形状に加工する工程と、前記基板および加工層のエッチングレートの比で表される選択比を変化させながら、前記加工層および基板を異方性エッチングして、該基板に前記加工層の形状を変化させて転写する工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (4件)：
B29C 59/14
, B29D 11/00
, G02B 5/18
, B29L 11:00
