特許

J-GLOBAL ID：200903048685577273

化学蒸着装置および化学蒸着方法

発明者： 森崎 仁史
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 中西 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-248972
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059844
出願日： 2001年08月20日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、高品質膜を生産性良く作製可能な発熱体を用いた化学蒸着装置及び蒸着方法を提供することを目的とする。【解決手段】 真空室内に、複数の基板載置部を有しかつ回転可能な基板ホルダを配置し、真空室を2つの室に分割する隔壁を基板保持部が該2つの室にわたって回転移動するように基板ホルダと所定の間隙をあけて配置し、2つの室のそれぞれに排気口を設けるとともに、一方の室に発熱体及びガス導入口を配置した構成とし、発熱体を所定の温度に加熱し、原料ガスを導入した後、基板ホルダを回転して基板載置部に載置された基板を2つの室の他方の室から一方の室の前記発熱体に対向する位置に移動して薄膜の堆積を行うことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

真空室内に、基板を保持する基板ホルダと、基板に対向して配置された発熱体と、及び原料ガスのガス導入口とを設け、高温に維持された発熱体に原料ガスを流し、生成する活性種により基板上に薄膜を堆積する化学蒸着装置において、前記基板ホルダは複数の基板載置部を有しかつ回転可能に配置され、前記真空室を2つの室に分割する隔壁を前記基板保持部が該2つの室にわたって回転移動するように前記基板ホルダと所定の間隙をあけて配置し、前記2つの室のそれぞれに排気口を設けるとともに、一方の室に前記発熱体及び前記ガス導入口を配置したことを特徴とする化学蒸着装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B

Fターム (25件)：

4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030KA08 ,  4K030KA23 ,  4K030LA14 ,  5F045AA03 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045AD06 ,  5F045AE17 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EB08 ,  5F045EB09 ,  5F045EM06 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04