特許
J-GLOBAL ID：200903048696274264
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-308800
公開番号（公開出願番号）：特開平10-150017
出願日： 1996年11月20日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 基板処理装置の高さを抑えて、大サイズの基板処理にも対応できるようにする。【解決手段】 複数枚の基板Wを基板保持具6に並列支持させた状態で浸漬する処理液槽42をチャンバー41内の下部に、処理液槽42から基板保持具6ごと引き上げた基板W群を乾燥処理する乾燥処理室43をチャンバー41内の上部に、それぞれ設ける。基板保持具6を乾燥処理室43に出し入れする開口部44をチャンバー41の側面に設け、この開口部44にシャッタ機構45を設ける。チャンバー41の外部には、開口部44を介して基板保持具6をチャンバー41に出し入れする保持具搬送機構を配備し、チャンバー41の内部には、保持具搬送機構から受け渡された基板保持具6を処理液槽42と乾燥処理室43とに亘って昇降させる保持具昇降機構46を配備する。
請求項（抜粋）：
複数枚の基板を基板保持具に並列支持させた状態で浸漬する処理液槽をチャンバー内の下部に設けるとともに、処理液槽から基板保持具ごと引き上げた基板群を乾燥処理する乾燥処理室をチャンバー内の上部に設け、基板保持具を乾燥処理室に出し入れする開口部をチャンバーの側面に設けるとともに、この開口部を開閉するシャッタ機構を備え、チャンバーの外部には、前記開口部を介して基板保持具をチャンバーに出し入れする保持具搬送機構を配備し、チャンバーの内部には、保持具搬送機構から受け渡された基板保持具を処理液槽と乾燥処理室とに亘って昇降させる保持具昇降機構を配備してある、ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 351
, B08B 3/04
, F26B 5/04
, H01L 21/68
H01L 21/304 351 C
, B08B 3/04 Z
, F26B 5/04
, H01L 21/68 A
