特許

J-GLOBAL ID：200903048702941464

ジベンゾイルメタン誘導体とポリアミノポリマー含有組成物

発明者： ブーディアフ・ブスイラ ,  ディディエール・カンドー
出願人/特許権者： ロレアル
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-146412
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330237
出願日： 1998年05月27日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：

【要約】【課題】 紫外線照射、特に日光照射に対し皮膚及び/又は毛髪を保護することを意図した新規な化粧品の提供。【解決手段】 化粧品及び/又は皮膚科学的に許容されるビヒクル中に、i)ジベンゾイルメタン誘導体、特に4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、ii)少なくとも1種のポリアミノポリマーを含有する新規の化粧品及び/又は皮膚科学的組成物。及び化粧品及び/又は皮膚科学的な分野におけるこれらの組成物の使用。

請求項（抜粋）：

化粧品及び/又は皮膚科学的組成物であり、化粧品用及び/又は皮膚科学的に許容されるビヒクル中に:a)次の群から選択される少なくとも1種のポリアミノポリマー:(A)次の群から選択されるポリアルキレンポリアミン又はポリアルキレンポリアミン誘導体:(i)7から20000の繰り返し単位を備えるポリアルキレンポリアミン;(ii)ポリアルキレンポリアミンのアルキル化誘導体;(iii)ポリアルキレンポリアミンへのアルキルカルボン酸の付加物;(iv)ポリアルキレンポリアミンへのケトンとアルデヒドの付加物;(v)ポリアルキレンポリアミンへのイソシアネート又はイソチオシアネートの付加物;(vi)ポリアルキレンポリアミンへのアルキレンオキシド又はポリ(アルキレンオキシド)ブロックコポリマーの付加物;(vii)ポリアルキレンポリアミンの第4級化誘導体;(viii)ポリアルキレンポリアミンへのシリコーンの付加物;(ix)ジカルボン酸とポリアルキレンポリアミンとのコポリマー;(B)ポリビニルイミダゾール;(C)ポリビニルピリジン;(D)ポリアルキレンポリアミン(A)(i)から(A)(ix)への、式(1):【化1】式中、同じか又は異なるR基は、H或いは、飽和又は不飽和の、直鎖又は環状の、C1-C6アルキル基、nは1から3の範囲の整数、の1-ビニルイミダゾールモノマーの付加物;(E)塩基の側鎖を含むアミノ酸をベースとするポリマー;(F)ポリマー(A)(i)から(A)(ix)、(B)、(C)、(D)及び(E)の架橋された誘導体;b)次の式(V)に一致する少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体:【化2】式中、同じか又は異なるR7、R8、R9とR10は、水素又は水酸基又は直鎖か分枝したC1-C8アルキル又は直鎖か分枝したC1-C8アルコキシ基を独立して表す、を備える組成物。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 抗日光化粧品組成物およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-133072   出願人：ロレアル