特許

J-GLOBAL ID：200903048707444914

好気処理槽

発明者： 二宮 隆志 ,  小林 和生 ,  古村 秀麿
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367378
公開番号（公開出願番号）：特開2001-029976
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：

【要約】【課題】 構造が簡単で、低コストでありながら、多量の微生物を固定することができ、汚水の処理能力に優れる好気処理槽を提供すること。【解決手段】 好気性微生物を用いて汚水を浄化する好気処理槽であって、前記好気処理槽は、接触材(1) を充填してなるものであり、前記接触材(1) は、紐状固定部材(11)、及び、前記紐状固定部材の長さ方向にわたって前記紐状固定部材に放射状に突設した複数の紐状の揺動部材(12)からなるものであり、隣接する前記紐状固定部材の間隔(L)が、隣接する前記紐状固定部材に突設された前記揺動部材の突設半径(r)の1.95倍より小さくなされ、前記接触材の直下に全面曝気式の散気装置(3) が設けられてなる好気処理槽(2) 。

請求項（抜粋）：

好気性微生物を用いて汚水を浄化する好気処理槽であって、前記好気処理槽は、接触材を充填してなるものであり、前記接触材は、紐状固定部材、及び、前記紐状固定部材の長さ方向にわたって前記紐状固定部材に放射状に突設した複数の紐状の揺動部材からなるものであり、隣接する前記紐状固定部材の間隔(L)が、隣接する前記紐状固定部材に突設された前記揺動部材の突設半径(r)の1.95倍より小さくなされ、前記接触材の直下に全面曝気式散気装置が設けられてなることを特徴とする好気処理槽。

IPC (2件)：

C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/10

FI (2件)：

C02F 3/08 ZAB Z ,  C02F 3/10 Z

Fターム (11件)：

4D003AA01 ,  4D003AA08 ,  4D003AA17 ,  4D003AB02 ,  4D003EA17 ,  4D003EA18 ,  4D003EA22 ,  4D003EA25 ,  4D003EA30 ,  4D003EA35 ,  4D003FA02