特許
J-GLOBAL ID：200903048717222642
スパッタリングターゲット材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-293573
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115257
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】製膜時にパーティクルの発生が少ないチタンターゲット材の工業的有利な製造方法を提供する。【解決手段】チタンを素材とし、加工率5%以上、加工速度100%/秒以上の条件下にチタンの塑性加工を行う。得られたスパッタリングターゲットチタン結晶粒の平均粒径は4μm以下である。
請求項（抜粋）：
チタンを素材とし、加工率5%以上、加工速度100%/秒以上の条件下にチタンの塑性加工を行うことを特徴とするスパッタリングターゲット材の製造方法。
Fターム (2件)：
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