特許

J-GLOBAL ID：200903048726357054

位置計測方法及び装置、位置決め方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法

発明者： 木田 佳己 ,  高橋 顕
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034472
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156322
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 スループットの向上を図ることができる位置計測方法及び装置、位置決め方法、露光装置、並びにマイクロデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】 ウェハが配置される基準位置の上方でウェハの位置を計測して、基準位置に対するウェハの相対的なずれ量である第1ずれ量を求める工程(S14)と、第1ずれ量に基づいて、ウェハの位置を調整する工程(S16)と、調整を終えたウェハを基準位置に配置する工程(S18)と、基準位置に配置されたウェハの位置を計測して、基準位置に対するウェハのずれ量である第2ずれ量を求める工程(S20)とを有する。

請求項（抜粋）：

予め定められた基準位置に対する基板の位置を計測する位置計測方法において、前記基準位置の上方で前記基板の位置を計測して、前記基準位置に対する前記基板の相対的なずれ量である第1ずれ量を求める第1計測工程と、前記第1ずれ量に基づいて、前記基板の位置を調整する調整工程と、前記調整工程を経た基板を前記基準位置に配置する配置工程と、前記基準位置に配置された前記基板の位置を計測して、前記基準位置に対する前記基板のずれ量である第2ずれ量を求める第2計測工程とを有することを特徴とする位置計測方法。

IPC (5件)：

G01B 21/00 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/26 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G01B 21/00 F ,  G01B 11/00 H ,  G01B 11/26 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 522 Z ,  H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 525 X

Fターム (50件)：

2F065AA01 ,  2F065AA07 ,  2F065AA09 ,  2F065AA12 ,  2F065AA20 ,  2F065AA31 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB25 ,  2F065BB27 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF55 ,  2F065FF67 ,  2F065GG02 ,  2F065GG07 ,  2F065HH05 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL01 ,  2F065LL12 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT02 ,  2F065TT08 ,  2F069AA17 ,  2F069BB15 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069MM03 ,  2F069MM24 ,  2F069RR01 ,  5F046AA20 ,  5F046DA30 ,  5F046DB01 ,  5F046DB04 ,  5F046DC10 ,  5F046EA30 ,  5F046EB01 ,  5F046FA10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05 ,  5F046FC08