特許

J-GLOBAL ID：200903048733964934

フォトマスク支持方法及び支持装置

発明者： 楠瀬 治彦
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-256768
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085297
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 フォトマスクに捩れや歪みが生じにくいフォトマスク支持方法を提供する。【解決手段】 フォトマスク1を少なくとも4個の吸着パッド2a〜2dにより支持する。各吸着パッド2a〜2dに負圧を与え、真空度の高い3個の吸着パッドを特定する。次に、全ての吸着パッドを大気圧に設定し、ストレスを解放する。次に、真空度の高い3個の吸着パッドに所定の負圧を与えると共に残りの吸着パッドには正圧を与える。この正圧はフォトマスクの重量を用いた吸着パッドの数で除算した値に相当する圧力とすることが好ましい。これにより、フォトマスクは3個の吸着パッドにより真空支持され、残りの吸着パッドにより下側から支えられるように支持される。

請求項（抜粋）：

透明基板の表面に転写すべきパターンが形成されているフォトマスクを支持するに際し、フォトマスクの裏面側を真空吸着により支持する少なくとも4個の吸着パッドと、各吸着パッドにそれぞれ接続され、吸着パッドに負圧のチャック圧を与える真空装置と、各吸着パッドにそれぞれ接続され、吸着パッドに負圧を与えた場合にフォトマスクと吸着パッドとの間の真空度を測定する真空度検出装置と、各吸着パッドにそれぞれ接続され、吸着パッドに正圧を与えるための高圧空気供給装置とを用い、少なくとも当該フォトマスクの4個の角部を前記吸着パッドによりそれぞれ支持する工程と、各吸着パッドに負圧を与え、真空度の高い3個の吸着パッドを決定する工程と、前記真空度の高い3個の吸着パッドのチャック圧を負圧にすると共に、残りの吸着パッドに正圧を与える工程とを具えることを特徴とするフォトマスク支持方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/68 P

Fターム (7件)：

5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031HA13 ,  5F031JA45 ,  5F031PA13 ,  5F046CC09 ,  5F046CC10