特許

J-GLOBAL ID：200903048754751540

露光装置

発明者： 橋本 純夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-322920
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162110
出願日： 1995年12月12日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】 露光光源にパルス光を発生するArF又はKrFエキシマレーザー光源等を使用しても、レンズの透過率及び屈折率に対する影響を抑える。【解決手段】 2つの同じ波長のパルス光を同じ発振周期Tで発振するパルス光源E1 ,E2 からのそれぞれのレーザービームB1,B2をビームスプリッター1で2分割した後、それぞれ1/2ずつのレーザービームB1,B2から合成された2つのレーザービームLB1,LB2をそれぞれ露光装置本体部L1 ,L2に供給する。パルス発振制御回路10により2つのパルス光源E1 ,E2 のパルスの発振タイミングを互いにT/2だけずらし、2つの露光装置本体部に供給するレーザービームLB1,LB2のパルス周波数を2倍にし、1パルス光当たりの照射エネルギー密度を1/2にしてソラリゼーション及びラジエーション・コンパクションによるレンズの透過率及び屈折率の変化を抑える。

請求項（抜粋）：

露光用の照明光のもとでマスクパターンを感光性の基板上に転写する露光装置において、複数の露光用の照明光を互いに異なるタイミングでそれぞれパルス発光させる複数個のパルス光源と、該複数個のパルス光源からの照明光を合成する合成光学系と、該合成光学系により合成される照明光を受けて、前記マスクパターンを前記感光性の基板上に転写する露光部と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 515 B ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 527