光ファイバ母材製造装置用廃ガス処理設備の排水処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本英俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-068278
公開番号（公開出願番号）：特開平5-269473
出願日： 1992年03月26日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：

【要約】【目的】処理時に生じる産業廃棄物の発生量を減少させることができる光ファイバ母材製造装置用廃ガス処理設備の排水処理方法を提供する。【構成】廃ガス処理設備から排出されるシリカ(SiO2 )を含んだ排水1をpH調整工程2に導き、排水1中にNaOH,HCl又はH2 SO4 等の如きpH調整剤3を加えてpHを6〜8(中性)に調整をする。次に、pH調整をした排水を脱水工程9に直接導き、脱水して固形物10と脱離水11とに固液分離する。

請求項（抜粋）：

光ファイバ母材製造装置の廃ガス処理設備から出てくるシリカを含んだ酸性排水を処理する光ファイバ母材製造装置用廃ガス処理設備の排水処理方法において、前記シリカを含んだ酸性排水をpH調整した後、そのpH調整済み廃水を脱水することを特徴とする光ファイバ母材製造装置用廃ガス処理設備の排水処理方法。

IPC (2件)：

C02F 1/60 , C02F 1/66

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭59-078942
特開昭57-021990

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