特許
J-GLOBAL ID：200903048759792414

昇降装置敷設工法

発明者：
今村 安延

今村 安延 について

, 
矢加部 英司

矢加部 英司 について


出願人/特許権者：
株式会社嘉穂製作所

株式会社嘉穂製作所 について


代理人 (1件)： 松尾 憲一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-124871
公開番号（公開出願番号）：特開2003-312963
出願日： 2002年04月25日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：
【要約】【課題】 既設の支持搭内に昇降用軌道部を敷設すること。【解決手段】 地上から敷設可能な高さにおいて、既設の塔の内周面に第一段目の昇降用軌道部形成体を取り付け、同第一段目の昇降用軌道部形成体に昇降部を取り付けて、同昇降部を昇降用軌道部形成体に沿って昇降可能となし、同昇降部に第二段目若しくは第二段目以降の複数の昇降用軌道部形成体を載置すると共に、同昇降部を第一段目の昇降用軌道部形成体の上部位置まで上昇移動させて、既設の塔の内周面に第二段目の昇降用軌道部形成体を第一段目の昇降用軌道部形成体に連続させて取り付ける作業を所要回数だけ繰り替えし行うようにした。
請求項（抜粋）：
既設の搭内に、昇降用軌道部と、同昇降用軌道部に沿って昇降する昇降部とを具備する昇降装置を敷設する工法であって、地上から敷設可能な高さにおいて、既設の塔の内周面に第一段目の昇降用軌道部形成体を取り付け、同第一段目の昇降用軌道部形成体に昇降部を取り付けて、同昇降部を昇降用軌道部形成体に沿って昇降可能となし、同昇降部に第二段目若しくは第二段目以降の複数の昇降用軌道部形成体を載置すると共に、同昇降部を第一段目の昇降用軌道部形成体の上部位置まで上昇移動させて、既設の塔の内周面に第二段目の昇降用軌道部形成体を第一段目の昇降用軌道部形成体に連続させて取り付け、続いて、増設用の昇降用軌道部形成体が昇降部に載置されていない場合には、一旦、同昇降部を下降させて増設用の昇降用軌道部形成体を昇降部に載置し、その後、昇降部に増設用の昇降用軌道部形成体を載置した状態にて、同昇降部を第二段目の昇降用軌道部形成体の上部位置まで上昇移動させて、既設の塔の内周面に第三段目の昇降用軌道部形成体を第二段目の昇降用軌道部形成体に連続させて取り付け、上記した昇降用軌道部形成体の取付作業を所要回数だけ繰り替えし行うことを特徴とする昇降装置敷設工法。
IPC (4件)：
B66B 7/00 ,  B66B 9/00 ,  B66B 9/02 ,  F03D 11/04
FI (4件)：
B66B 7/00 J ,  B66B 9/00 C ,  B66B 9/02 A ,  F03D 11/04 A
Fターム (12件)：
3F301AA03 ,  3F301BA08 ,  3F301BB10 ,  3F305AA03 ,  3F305DA04 ,  3F305DA07 ,  3H078AA02 ,  3H078AA26 ,  3H078BB13 ,  3H078BB17 ,  3H078CC22 ,  3H078CC47
引用特許：
審査官引用 (3件)

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