特許

J-GLOBAL ID：200903048768722917

ネガ型含フッ素レジスト組成物

発明者： 児玉 俊一 ,  金子 勇 ,  川口 泰秀
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 野口 恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-281167
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090996
出願日： 2000年09月18日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 酸性水酸基を含有するモノマー単位を構成単位とする含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)、アミノプラスト(Z)、および有機溶媒(D)を含むことを特徴とするネガ型含フッ素レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸性水酸基を含有するモノマー単位を構成単位とする含フッ素ポリマー(X)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(Y)、アミノプラスト(Z)、および有機溶媒(D)を含むことを特徴とするネガ型含フッ素レジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/038 601 ,  C08F214/18 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 27/12 ,  C08L 29/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/038 601 ,  C08F214/18 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 27/12 ,  C08L 29/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (62件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025BE00 ,  2H025CB07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002CC162 ,  4J002CC182 ,  4J002CC192 ,  4J002EA058 ,  4J002EC038 ,  4J002ED028 ,  4J002EE038 ,  4J002EH038 ,  4J002EH158 ,  4J002EQ006 ,  4J002ET017 ,  4J002EU186 ,  4J002EU187 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J002HA03 ,  4J100AA20R ,  4J100AB10P ,  4J100AC24Q ,  4J100AC26Q ,  4J100AC27Q ,  4J100AD07P ,  4J100AE09P ,  4J100AE09R ,  4J100AE39Q ,  4J100AR11R ,  4J100AR21R ,  4J100BA03P ,  4J100BB11P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38