特許
J-GLOBAL ID:200903048768901218

赤外線光学素子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-221514
公開番号(公開出願番号):特開平5-060901
出願日: 1991年09月02日
公開日(公表日): 1993年03月12日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、CVD法で作成された高純度の多結晶硅素を用いて、透過率が高く、光学性能の良好な赤外線光学素子を提供することを目的とする。【構成】 硅素化合物と水素の混合ガスを900°C〜1200°Cに加熱した基体上に流して得られる多結晶硅素をレンズ形状あるいはフィルタ-形状に加工して赤外線光学素子を得る。
請求項(抜粋):
CVD法(化学蒸着法)で作成された純度が99.9999999%以上の多結晶硅素をレンズ形状あるいはフィルター形状に加工した赤外線光学素子。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-245201
  • 特開昭62-046912

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