特許

J-GLOBAL ID：200903048772689428

レジスト組成物

発明者： 松野 修吾 ,  阿部 信紀 ,  杉本 達也
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-169983
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015863
出願日： 1994年06月29日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 任意にビニルフェノール単位やエチレン単位を含んでもよいポリベンジルエーテル化ビニルフェノールに酸不安定性基を導入した樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R<SP>1</SP>、R<SP>5</SP>、R<SP>6</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基であり、R<SP>2</SP>、R<SP>3</SP>はそれぞれ独立して水素原子、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基であり、R<SP>4</SP>は次式(2)【化2】または次式(3)【化3】(式中、Aは-O-、-COO-、-OCOO-、-OC(R<SP>14</SP>)(R<SP>15</SP>)COO-であり、R<SP>8</SP>〜R<SP>15</SP>は水素原子、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基またはアリール基である。但しR<SP>8</SP>とR<SP>9</SP>、R<SP>11</SP>とR<SP>12</SP>はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。)R<SP>7</SP>は次式(4)、【化4】次式(5)、【化5】次式(6)【化6】または次式(7)【化7】(式中、R<SP>16</SP>〜R<SP>24</SP>は水素原子、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基である。但し、R<SP>16</SP>とR<SP>17</SP>、R<SP>19</SP>とR<SP>20</SP>はそれぞれ結合して環を形成していてもよい。)である基を示し、k、lおよびmは重合体中の各構成単位のモル分率を示す。但し、k+l+m=1、0<k≦1、0≦l<1、0≦m<lである。)で表される構成単位を有する重合体と酸発生剤とを含むレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027