特許
J-GLOBAL ID：200903048780725107
ホログラム製造方法とホログラム露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森田 寛 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-151762
公開番号（公開出願番号）：特開平7-013474
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：
【要約】【目的】本発明は、ホログラムを製造するホログラム製造方法と、ホログラムの露光に用いられるホログラム露光装置に関し、所望の回折効率分布を持つ高回折効率のホログラムを製造可能にするホログラム製造方法の提供と、そのホログラム製造方法の実現に用いるホログラム露光装置の提供を目的とする。【構成】ホログラム乾板に微小に異なる空間周波数を持つ干渉縞を少なくとも2回以上多重露光する第1の処理過程と、第1の処理過程で露光したホログラム乾板を現像する第2の処理過程とを備えるようにホログラム製造方法を構成し、また、ホログラムの干渉縞を生成するために用意する2つのレーザ光の照射角度を制御する角度制御手段を備えるようにホログラム露光装置を構成する。
請求項（抜粋）：
所望の回折効率分布を持つホログラムを製造するためのホログラム製造方法であって、ホログラム乾板に微小に異なる空間周波数を持つ干渉縞を少なくとも2回以上多重露光する第1の処理過程と、上記第1の処理過程で露光したホログラム乾板を現像する第2の処理過程とを備えることを、特徴とするホログラム製造方法。
IPC (2件)：
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