特許
J-GLOBAL ID：200903048782272827
放射線感応性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-306954
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159997
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 水による現像ができかつ従来より高感度な放射線感応性樹脂組成物を提供すること。【構成】 酸により脱離可能な置換基例えばt-ブトキシカルボニロキシ基によってOH基が保護されているポリビニルアルコール誘導体144g(1mol)と、露光により酸を発生する酸発生剤例えばトリフェニルスルホニウムトリフレート8.25g(0.02mol)とを含む放射線感応性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
酸により脱離可能な置換基によってOH基が保護されているポリビニルアルコール誘導体と、露光により酸を発生する酸発生剤とを含むことを特徴とする放射線感応性樹脂組成物。
IPC (9件)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/021 511
, G03F 7/028
, G03F 7/039 501
, G03F 7/20 501
, G03F 7/26 511
, G03F 7/40 501
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 A
, H01L 21/30 571
, H01L 21/30 573
