光学素子成形用型およびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奈良武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-298287
公開番号（公開出願番号）：特開平8-157224
出願日： 1994年12月01日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】成形面に形成されたガラスとの融着を防止する離型膜が型基材から剥離することに対する耐久性を著しく向上する。また、容易に製造する。【構成】光学素子成形用型基材1の成形加工面2にイオンビームスパッタ法によりWC膜3を形成する。その上にCr-N膜4を形成し、2時間アニールして成形面5を形成する。

請求項（抜粋）：

成形面に離型膜を被膜した光学素子成形用型において、前記光学素子成形用型の成形面と離型膜との間に光学素子成形用型の基材の主成分を含有する薄膜を介在させたことを特徴とする光学素子成形用型。

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