特許
J-GLOBAL ID：200903048798814883
多層膜反射鏡及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-206837
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147198
出願日： 1999年07月21日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 従来よりも反射率を増大させた多層膜反射鏡を得ることができる多層膜反射鏡の製造方法を提供すること。【解決手段】 スパッタリング法を用いて基板8の上に、屈折率が相対的に小さい第1物質の層(第1物質層)と屈折率が相対的に大きい第2物質の層(第2物質層)とを交互に複数回積層することにより多層膜反射鏡を製造する方法において、前記第1物質層を形成した後、前記第2物質層を形成する前に、形成した前記第1物質層の表面にイオンビーム11を照射して表面を平滑化する工程を設けるか、前記第2物質層を形成した後、前記第1物質層を形成する前に、形成した前記第2物質層の表面にイオンビーム11を照射して表面を平滑化する工程を設けるか、或いは、前記両工程を設けることを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。
請求項（抜粋）：
スパッタリング法を用いて基板の上に、屈折率が相対的に小さい第1物質の層(第1物質層)と屈折率が相対的に大きい第2物質の層(第2物質層)とを交互に複数回積層することにより多層膜反射鏡を製造する方法において、前記第1物質層を形成した後、前記第2物質層を形成する前に、形成した前記第1物質層の表面にイオンビームを照射して表面を平滑化する工程を設けるか、前記第2物質層を形成した後、前記第1物質層を形成する前に、形成した前記第2物質層の表面にイオンビームを照射して表面を平滑化する工程を設けるか、或いは、前記両工程を設けることを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。
IPC (4件)：
G21K 1/06
, B32B 7/02 103
, G02B 5/08
, G03B 42/02
G21K 1/06 D
, B32B 7/02 103
, G02B 5/08 C
, G02B 5/08 A
, G03B 42/02
