特許
J-GLOBAL ID：200903048800074264
磁気記録媒体の製造装置および製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-131379
公開番号（公開出願番号）：特開平10-320771
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 磁性薄膜蒸着時の熱による、非磁性支持体からの放出ガスを低くおさえることにより、磁性薄膜の配向性を高め、すぐれた電磁変換特性の磁気記録媒体を実現する製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】 非磁性支持体上に真空中で磁性薄膜を形成する前に、上記非磁性支持体に対してマイクロ波加熱器により加熱処理を施す。非磁性支持体にあらかじめ加熱処理を施すことで、磁性薄膜形成時の放出ガスを抑えることができる。
請求項（抜粋）：
非磁性支持体上に真空中で磁性薄膜を形成する薄膜形成手段と、上記磁性薄膜の形成前に、上記非磁性支持体に対して加熱処理を施すマイクロ波加熱器とを備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G11B 5/85 Z
, C23C 14/14 F
