特許

J-GLOBAL ID：200903048800199890

研磨液供給方法及び装置

発明者： 谷 和憲
出願人/特許権者： ワイエイシイ株式会社
代理人 (1件)： 田辺 良徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-209910
公開番号（公開出願番号）：特開平7-040246
出願日： 1993年08月02日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：

【要約】【目的】所定大きさ以上の砥粒及び凝集粒を排除して加工部に供給する。【構成】タンク1に収納された研磨液2を吸い上げて圧送して加工部に供給する研磨液供給手段5と、研磨液供給手段5より圧送された一定量のブロック毎の研磨液中に含まれる砥粒及び凝集粒を測定する測定手段8と、測定手段8の測定結果によって所定大きさ以上の砥粒及び凝集粒を含む一定量のブロックの研磨液を排除する分級手段9と、研磨液供給手段5、測定手段8及び分級手段9を制御する制御部15とを備えている。

請求項（抜粋）：

タンクに収納された研磨液を吸い上げて圧送し、この圧送された一定量のブロック毎の研磨液中の砥粒及び凝集粒を測定し、この測定結果によって所定大きさ以上の砥粒及び凝集粒を含む一定量のブロックの研磨液を排除し、その他の一定量のブロックの研磨液は加工部に供給することを特徴とする研磨液供給方法。