特許

J-GLOBAL ID：200903048801274739

プラズマ処理装置

発明者： 大久保 守
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352894
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201811
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】誘導手段によるプラズマ処理を行う被処理体の被処理面側の対向空間から、前記誘導手段を他の空間へ移す。【構成】気密な容器1内に設けられた被処理体3のプラズマ処理を行うに際し、プラズマ13を生起する誘導手段5を、前記被処理体3の被処理面と反対面側に設ける。

請求項（抜粋）：

気密な容器内にプラズマを生起する誘導手段を備え、この誘導手段と前記プラズマとの間に前記プラズマにより処理を行う被処理体を設けることを特徴とするプラズマ処理装置。