特許
J-GLOBAL ID：200903048804305775
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257220
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045253
出願日： 1991年09月10日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 排気口部分における排気弁体の形状およびその電位差に配慮し、上記排気口部分を含めて真空チャンバ-内壁を一定の電位に維持し、プラズマを安定で均等状態に保持できるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 真空チャンバ-(101)内に対向して配置された電極(109、112)間での放電現象によりプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、上記真空チャンバ-(101)の内壁(102)に設けた排気口に、上記内壁面に対して凹凸の無いように閉じられる第1の弁体(121)を開閉可能に設けるとともに、上記弁体(121)を上記内壁(102)と同電位に保持し、かつ、上記弁体(121)よりも排気口外側に密閉式の第2の弁体(106)を配置している。
請求項（抜粋）：
真空チャンバ-内に対向して配置された電極間での放電現象によりプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、上記真空チャンバ-の内壁に設けた排気口に、上記内壁面に対して凹凸の無いように閉じられる第1の弁体を開閉可能に設けるとともに、上記弁体を上記内壁と同電位に保持し、かつ、上記弁体よりも排気口外側に密閉式の第2の弁体を配置していることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, C23F 4/00
