特許
J-GLOBAL ID：200903048808870043
電解流動研磨加工方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-159288
公開番号（公開出願番号）：特開平8-003796
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：
【要約】【目的】 均一な研磨面を容易且つ安全に得ることができると共に研磨加工作業を省エネルギー化して加工費の低廉化を可能とする電解流動研磨加工方法を提供する。【構成】 陰極に保持された電解研磨槽1a内に、電解研磨液3aに研磨砥粒3bを分散させた電解スラリー3を満たし、陽極に保持されたミルクピッチャー2を被研磨物として浸漬する。電解研磨槽1a内の電流密度を陽極酸化領域としてミルクピッチャー2の電解を行い、その表面に形成された皮膜を電解スラリー3の撹拌による研磨砥粒3bの流動により研磨除去して、ミルクピッチャー2の表面を研磨加工する。
請求項（抜粋）：
電解研磨槽内の電解研磨液に研磨砥粒を分散させ、この研磨砥粒分散電解研磨液中に被研磨物を浸漬し、この被研磨物を陽極として上記電解研磨液中の陰極との間に上記被研磨物を陽極酸化させる電流密度で電流を流すと共に、上記電解研磨液を撹拌して上記研磨砥粒を流動させることにより、上記被研磨物表面に生成した陽極酸化皮膜を上記流動する研磨砥粒で研磨除去することを特徴とする電解流動研磨加工方法。
IPC (3件)：
C25F 3/16
, B23H 3/00
, B24B 37/00
