特許

J-GLOBAL ID：200903048811335302

基板処理装置

発明者： 遠藤 豊
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-237202
公開番号（公開出願番号）：特開2000-068351
出願日： 1998年08月24日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】 装置の小型化、スループットや処理効率を向上することである。【解決手段】 処理対象としてのウエハにフォトレジストを塗布するコータ11と、レジストが塗布されたウエハにマスクのパターンの像を転写する露光装置21との間にインタフェース装置31を介装する。インタフェース装置31にはウエハの姿勢を所定の基準に予備的に整合させるプリアライメントを行うステーション33を設けており、レジスト塗布後のウエハのプリアライメントを実施する。プリアライメント後のウエハを搬入用スライダ25により露光装置21の露光処理部24までその姿勢を保持した状態で搬送する。

請求項（抜粋）：

処理対象としての基板に第1処理を施す第1処理装置と、該第1処理が施された基板に第2処理を施す第2処理装置とを備えた基板処理装置において、前記第1処理装置から前記基板を受け取り前記第2処理装置に渡すインタフェース装置を前記第1及び第2処理装置の間に介装し、前記基板の姿勢を所定の基準に整合させるプリアライメント装置を前記インタフェース装置に設け、前記プリアライメント装置により整合された基板の姿勢をほぼ保持した状態で前記第2処理装置の処理部まで搬送する基板搬送装置を前記第2処理装置に設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 520 A

Fターム (16件)：

5F031AA10 ,  5F031CC22 ,  5F031FF01 ,  5F031GG02 ,  5F031GG04 ,  5F031GG12 ,  5F031GG15 ,  5F031HH05 ,  5F031KK04 ,  5F031KK06 ,  5F046AA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046CD04