特許
J-GLOBAL ID:200903048814416818
殺菌システムおよび装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
吉田 稔
, 田中 達也
, 仙波 司
, 古澤 寛
, 鈴木 泰光
, 臼井 尚
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-549358
公開番号(公開出願番号):特表2007-521118
出願日: 2005年01月06日
公開日(公表日): 2007年08月02日
要約:
目的物を殺菌または除染するためのシステム、装置および方法は、密閉できる殺菌室(12)および好ましくはNOまたはNOとNO2の混合物を発生する殺菌剤ガス発生組成物(24)を含む。好ましくは、殺菌剤ガス発生組成物(24)は炭素系ジアゼニウムジオレート化合物および粉末酸を含む。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
材料を殺菌するシステムまたは装置であって、
密閉できる殺菌室および殺菌剤ガス発生組成物を含み、前記殺菌剤ガス発生組成物がNOまたはNOとNO2との混合物を発生することを特徴とするシステムまたは装置。
IPC (5件):
A61L 2/20
, A01N 59/00
, A01P 3/00
, A01N 33/26
, A01N 47/48
FI (5件):
A61L2/20 G
, A01N59/00 D
, A01P3/00
, A01N33/26
, A01N47/48
Fターム (17件):
4C058AA12
, 4C058AA22
, 4C058AA28
, 4C058BB07
, 4C058DD20
, 4C058JJ16
, 4C058JJ26
, 4C058JJ28
, 4C058JJ29
, 4H011AA02
, 4H011BA01
, 4H011BB04
, 4H011BB11
, 4H011BB18
, 4H011BC06
, 4H011DA22
, 4H011DD05
引用特許:
出願人引用 (2件)
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米国特許第6,607,696号明細書
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米国特許第6,602,466号明細書
審査官引用 (1件)
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