特許
J-GLOBAL ID:200903048814416818

殺菌システムおよび装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 吉田 稔 ,  田中 達也 ,  仙波 司 ,  古澤 寛 ,  鈴木 泰光 ,  臼井 尚
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-549358
公開番号(公開出願番号):特表2007-521118
出願日: 2005年01月06日
公開日(公表日): 2007年08月02日
要約:
目的物を殺菌または除染するためのシステム、装置および方法は、密閉できる殺菌室(12)および好ましくはNOまたはNOとNO2の混合物を発生する殺菌剤ガス発生組成物(24)を含む。好ましくは、殺菌剤ガス発生組成物(24)は炭素系ジアゼニウムジオレート化合物および粉末酸を含む。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
材料を殺菌するシステムまたは装置であって、 密閉できる殺菌室および殺菌剤ガス発生組成物を含み、前記殺菌剤ガス発生組成物がNOまたはNOとNO2との混合物を発生することを特徴とするシステムまたは装置。
IPC (5件):
A61L 2/20 ,  A01N 59/00 ,  A01P 3/00 ,  A01N 33/26 ,  A01N 47/48
FI (5件):
A61L2/20 G ,  A01N59/00 D ,  A01P3/00 ,  A01N33/26 ,  A01N47/48
Fターム (17件):
4C058AA12 ,  4C058AA22 ,  4C058AA28 ,  4C058BB07 ,  4C058DD20 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ26 ,  4C058JJ28 ,  4C058JJ29 ,  4H011AA02 ,  4H011BA01 ,  4H011BB04 ,  4H011BB11 ,  4H011BB18 ,  4H011BC06 ,  4H011DA22 ,  4H011DD05
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 米国特許第6,607,696号明細書
  • 米国特許第6,602,466号明細書
審査官引用 (1件)

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