特許
J-GLOBAL ID：200903048819502216

露光マスク密着方法及び密着装置並びに露光装置

発明者：
向井 厚史

向井 厚史 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-348668
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151883
出願日： 2001年11月14日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：
【要約】【課題】 露光用マスクと基板との密着性を向上させ、露光光の波長より小さな微細パターンを作製する近接場露光方法においても、高品位な露光が行える露光マスクの密着方法及び密着装置並びに露光装置を提供する。【解決手段】 露光光の波長より小さい開口が含まれるパターンを有した露光マスク3を用い、感光性レジスト層の形成された基板5にこのパターンの露光を行う前に、予め露光マスク3と基板5とを密着させる際に、露光マスク3と基板5とを重ね合わせて加圧ローラ13a,13bに挟み込み、該加圧ローラ13a,13bを露光マスク3及び基板5に対して相対移動させることで、露光マスク3と基板5との間に残留する気体を双方の界面から追い出すようにした。
請求項（抜粋）：
露光光の波長より小さい開口が含まれるパターンを有した露光マスクを用い、感光性レジスト層の形成された基板に前記パターンの露光を行う前に、予め前記露光マスクと前記基板とを密着させる露光マスク密着方法であって、前記露光マスクと前記基板とを重ね合わせて加圧ローラに挟み込み、該加圧ローラを前記露光マスク及び基板に対して相対移動させることで、前記露光マスクと前記基板との間の界面に残留する気体を該界面から追い出すことを特徴とする露光マスク密着方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D
Fターム (3件)：
5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046DA21
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM