特許

J-GLOBAL ID：200903048820870369

光デイスク用基板の製造方法

発明者： 鈴木孝典 ,  上村健雄
出願人/特許権者： 株式会社巴川製紙所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211314
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036125
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、光ディスク用基板の製造において、スタンパーから紫外線硬化型樹脂を剥離しやすくしてガラス基板の割れを防止し、剥離時間の短縮に伴う光ディスク用基板の生産性が向上した製造方法を提供するものである。【構成】 スタンパーの表面と、紫外線硬化型樹脂膜を付設したガラス基板の該紫外線硬化型樹脂膜の表面とを重ね合せて圧接し、ガラス基板の背面より紫外線を照射した後、スタンパー表面からガラス基板を剥離してスタンパー表面の凹凸情報を転写するに際し、前記スタンパー表面にあらかじめプラズマ重合法によりフッ素系モノマーの重合物の薄膜を形成させておく光ディスク用基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

スタンパーの表面と、紫外線硬化型樹脂膜を付設したガラス基板の該紫外線硬化型樹脂膜の表面とを重ね合せて圧接し、ガラス基板の背面より紫外線を照射した後、スタンパー表面からガラス基板を剥離してスタンパー表面の凹凸情報を転写するに際し、前記スタンパーの表面にあらかじめプラズマ重合法によりフッ素系モノマーの重合物の薄膜を形成させておくことを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。

IPC (6件)：

G11B 7/26 521 ,  B29C 33/42 ,  B29C 33/62 ,  B29C 33/76 ,  B29K101:00 ,  B29L 17:00