特許
J-GLOBAL ID：200903048827903203
プラズマ発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-239067
公開番号（公開出願番号）：特開平8-106993
出願日： 1994年10月03日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ波導入距離を調節し、プラズマを安定させ、基板の処理状態を最適なものとする。【構成】 基板処理室3におけるプラズマの生成状態を最適にするために、プラズマ発生予備室12の上部に導波板37を設け、該導波板37の外周部にマイクロ波をシールドするシールド材50を取付けてプラズマ発生予備室12に摺動可能とし、基板処理室3へのマイクロ波導入距離を調整できる構成とする。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を利用したプラズマ処理装置におけるプラズマ発生装置において、基板処理室におけるプラズマの生成状態を最適にするために、プラズマ発生予備室内壁に導波板を嵌装し、かつ該導波板の外周部に、マイクロ波をシールドするシールド材を取付けてプラズマ発生予備室に摺動可能とし、前記基板処理室へのマイクロ波導入距離を可変とした構造を有することを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
