特許
J-GLOBAL ID：200903048843245119
シリカ系被膜形成用塗布液および被膜付基材
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-183052
公開番号（公開出願番号）：特開平7-034036
出願日： 1993年07月23日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：
【要約】【構成】 特定の繰り返し単位を少なくとも有する1種または2種以上のポリシラザンと、特定のカルボン酸および/またはカルボン酸エステルとを反応させて得られる改質ポリシラザンを含有するシリカ系被膜形成用塗布液、および該塗布液を用いて形成されたシリカ系被膜を有する被膜付基材。【効果】 上記塗布液を基材上に塗布して得られた塗膜を乾燥・焼成すると、被塗布面の凹凸が高度に平坦化された被膜付基材が得られる。
請求項（抜粋）：
下記一般式[I]【化1】(式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基である。)で表わされる繰り返し単位を少なくとも有する1種または2種以上のポリシラザンと、下記一般式[II]RCOOR’ ...[II](式中、Rは、炭素原子数1〜30の炭化水素基であり、R’は、水素原子または炭素原子数1〜20の炭化水素基である。)で表わされるカルボン酸および/またはカルボン酸エステルとを反応させて得られる改質ポリシラザンを含有することを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液。
引用特許：
前のページに戻る
