特許
J-GLOBAL ID：200903048850272504
位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-067224
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279484
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】本発明は、用いる透過率調整部を透過する透過光の位相のシフト量および透過率の調整が容易であり、かつ容易に製造が可能であることから最終的に低コストで製造することができる位相シフトマスクを提供することを主目的とするものである。【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、透明基板と、上記透明基板上に形成された光透過領域と、上記光透過領域に対し透過光の位相が実質上反転する位相シフト領域と、上記光透過領域の透過光位相と実質上同位相であり、上記光透過領域と光透過率が異なるように調整する透過率調整領域とを有し、上記透過率調整領域がタンタルを主成分とする透過率調整部を透明基板上に配置してなる領域であることを特徴とする位相シフトマスクを提供する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
透明基板と、前記透明基板上に形成された光透過領域と、前記光透過領域に対し透過光の位相が実質上反転する位相シフト領域と、前記光透過領域の透過光位相と実質上同位相であり、前記光透過領域と光透過率が異なるように調整する透過率調整領域とを有し、前記透過率調整領域がタンタルを主成分とする透過率調整部が透明基板上に形成されてなる領域であることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
