特許
J-GLOBAL ID：200903048850688808
プラズマエッチング装置およびそれを用いたプラズマエッチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
堀口 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-360894
公開番号（公開出願番号）：特開2006-173223
出願日： 2004年12月14日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】 フォーカスリングを使用限界まで適正に使用することのできるプラズマエッチング装置およびそれを用いたプラズマエッチング方法を提供する。【解決手段】 内部を減圧可能に構成された容器11と、容器11に収納された半導体基板12を支持する下部電極13と、容器11の外壁の一側に形成された入射光に対して透明な第1の窓15と、第1の窓15を通して半導体基板12の外周部に配置されたフォーカスリング14の上面にレーザ光を照射する光照射部16と、容器11の外壁の他側に形成され、フォーカスリング14の上面で反射されたレーザ光に対して透明な第2の窓17と、第2の窓17に形成された目盛り18とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
内部を減圧可能に構成された容器と、
前記容器に収納された半導体基板を支持する下部電極と、
前記容器の外壁の一側に形成された入射光に対して透明な第1の窓と、
前記第1の窓を通して前記半導体基板の外周部に配置されたフォーカスリングの上面にレーザ光を照射する光照射部と、
前記容器の外壁の他側に形成され、前記フォーカスリングの上面で反射された前記レーザ光に対して透明な第2の窓と、
前記第2の窓に形成された目盛りと
を有することを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
5F004BA04
, 5F004BB03
, 5F004BB23
, 5F004CB05
, 5F004CB09
