特許
J-GLOBAL ID：200903048850714507
イオンビーム加工方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-177750
公開番号（公開出願番号）：特開平7-035662
出願日： 1993年07月19日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 複数の加工領域の加工をそれぞれの位置精度高く行うことができるイオンビーム加工方法を実現する。【構成】 図5はでは各領域の境界は点線で示しており、実線がイオンビームの走査軌跡である。2種の領域R7,R8の加工を行う場合、事前に加工データの座標変換を行う。すなわち、2種の領域の加工データは、共通の座標原点(図中+印)を有した単一の加工データに変換される。そして、2種の領域R7,R8の加工時には、R7の領域を走査した後、次にR8の領域の走査を行う一連の走査を繰り返し行うようなデータとされる。この図から明らかなように、まず、領域R7のイオンビームによる走査の後イオンビームのブランキングが行われ、次に領域R8のイオンビームによる走査が行われる。領域R8のイオンビームによる走査の後、再びイオンビームは領域R7を走査し、領域R7とR8は交互に繰り返し走査される。
請求項（抜粋）：
イオン源からのイオンビームを細く集束し、被加工材料に照射し、被加工材料の特定領域をイオンビームによってスパッタさせ、所望の加工を行うイオンビーム加工方法において、複数の加工領域に対して単一の座標原点を有する加工データを作成し、この加工データに基づきイオンビームを偏向し、複数の加工領域をそれぞれ交互にスパッタさせて加工を行うようにしたイオンビーム加工方法。
IPC (3件)：
G01N 1/28
, H01J 37/30
, H01J 37/302
