特許

J-GLOBAL ID：200903048854298001

ポリオルガノシロキサン粒子の連続製造方法

発明者： 落合 徹典 ,  西田 真 ,  岩崎 光倫
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-251308
公開番号（公開出願番号）：特開平9-095534
出願日： 1995年09月28日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】 非多孔質で均一な粒径を有するポリオルガノシロキサン粒子を、効率よく、安定して、連続的に製造する方法を提供すること。【解決手段】 オルガノアルコキシシランを多孔質膜に通して水相中へ圧入し、単分散系のΟ/W型のエマルジョンを形成する工程と、前記エマルジョンに触媒を添加して前記オルガノアルコキシシランを縮合重合させる工程とからなることを特徴とするポリオルガノシロキサン粒子の連続製造方法による。

請求項（抜粋）：

オルガノアルコキシシランを多孔質膜に通して水相中へ圧入し、単分散系のΟ/W型のエマルジョンを形成する工程と、前記エマルジョンに触媒を添加して前記オルガノアルコキシシランを縮合重合させる工程とからなることを特徴とするポリオルガノシロキサン粒子の連続製造方法。