特許
J-GLOBAL ID：200903048863122234
ヘミング構造とヘミング加工方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 英彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-300839
公開番号（公開出願番号）：特開平8-155564
出願日： 1994年12月05日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】 アウターパネル12のフランジ部12fとインナーパネル14の縁部14fとがシール部材13を介さずに直接的に面接触する構造にして、レーザー溶接等を可能にする。【構成】 本発明に係るヘミング構造は、フランジ部12fを備えるアウターパネル12の本体部12mとインナーパネル14の縁部14fとの間にシール部材13を介在させた状態で、そのアウターパネル12のフランジ部12fを前記インナーパネル14の縁部14fに面接触するまで折り返して、アウターパネル12とインナーパネル14とを結合する構造のヘミング構造において、アウターパネル12とインナーパネル14の縁部14fとの間には、フランジ部12fを折り返す際に押し出されるシール部材13を溜める空間Sが設けられている。
請求項（抜粋）：
フランジ部を備えるアウターパネルの本体部とインナーパネルの縁部との間にシール部材を介在させた状態で、そのアウターパネルのフランジ部を前記インナーパネルの縁部に面接触するまで折り返して、前記アウターパネルとインナーパネルとを結合する構造のヘミング構造において、前記アウターパネルとインナーパネルの縁部との間には、前記フランジ部を折り返す際に押し出されるシール部材がそのフランジ部とインナーパネルの縁部との面接触部分に回り込まないように、その押し出されたシール部材を溜める空間が設けられていることを特徴とするヘミング構造。
IPC (3件)：
B21D 39/02
, B21D 19/08
, B23K 26/00 310
